近日，我院史振江技能大师工作室师生科研团队斩获新成果，由李君艺教授领衔，史振江教授、凌文培老师指导，2024级学生卢立舜、张超风共同参与完成的科研论文《DEA-GIN: Distance-Enhanced Attentional Graph Isomorphism Network for Efficient Lithography Hotspot Detection》成功被知名SCI期刊《IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing》（IEEE TSM）录用。

IEEE TSM是IEEE旗下专注半导体制造领域的权威SCI期刊，创刊于1987年，聚焦集成电路制造工艺、版图可制造性设计、缺陷检测、良率优化等前沿方向，是芯片制造领域公认的专业权威期刊，所有收录论文均经过严格同行评审。目前，该论文已于IEEE Xplore平台上线Early Access: https://ieeexplore.ieee.org/document/11649539。

论文围绕集成电路版图热点缺陷检测问题，提出了一种新的芯片版图结构转化为图结构的方法，利用轻量化的图神经网络——图同构网络（GIN）捕捉版图空间拓扑信息，同时构建距离增强注意力机制，强化版图节点之间空间距离特征的挖掘，对比现有主流算法，所提模型取得更优检测性能，同时显著降低模型推理开销，可适配大规模芯片版图的热点检测任务。两名2024级学生深度参与整个过程的核心研究工作，分别负责芯片版图图结构转化方法的实现、轻量化图同构网络（GIN）的模型训练，距离增强注意力机制的特征挖掘实验与数据对比分析。师生协同攻关，最终提出全新检测模型，可以高效适配大规模芯片版图热点检测实际任务。

此次高水平SCI期刊论文成功录用，是技能大师工作室科教融合、以研促教的重要成果。学院将持续发挥师生科研创新合力，持续深化产教融合、科教融汇，聚焦集成电路等重点产业领域关键技术难题，推动师生科研创新成果产出，以高质量科研赋能高素质技术技能人才培养。

IEEE Xplore平台截图